電鑄加工是利用金屬在電解液中產生陰極沉積的原理獲得製件的特種加工方法，用導電的原模作陰極,用於電鑄的金屬作陽極，金屬鹽溶液作電鑄溶液，即陽極金屬材料與金屬鹽溶液中的金屬離子的種類相同。
在直流電源的作用下，電鑄溶液中的金屬離子在陰極還原成金屬，沉積於原模表麵，而陽極金屬則源源不斷地變成離子溶解到電鑄液中進行補充，使溶液中金屬離子的濃度保持不變。
當陰極原模電鑄層逐漸加厚達到要求的厚度時，與原模分離，即獲得與原模型麵相反的電鑄製件。
那麽，電鑄加工需要的設備是什麽？
(1)整流電源
電鑄電源是電鑄工藝中最主要的設備之一，是為電鑄過程提供工作能量的能源設備。
選擇電鑄電源時，要注意以下幾點。
①電壓選擇。在電鑄過程中，電源的直流輸出額定電壓一般應不小於電鑄槽最高工作電壓的1．1倍。如果電沉積過程中需要衝擊電流時，整流電源的電壓值應該能滿足要求。可供選擇的直流電源的電壓值有以下係列：6V、9V、12V、15V、18V、24V、36V等。用戶還可以根據自己的需要來設定電源的最大電壓值。
②電流選擇。電鑄的直流額定電流應該不小於根據所加工產品尺寸計算出來的電流值，並且要加上當需要衝擊電流時的過載能力。
③電源波型。直流整流電源根據供電和整流方式的不同而有幾種電源波型：單相半波、單相全波、單相橋式、三相半波、三相全波、雙反星形帶平衡電抗器。還有周期換向電流、脈衝間歇電流等。
現在常用的電源為可控矽整流電源，其輸出電流根據不同的規格可以有5A、10A、50A、100A直至20000A等好多種選擇。對於對電流的波型有特別要求的電鑄過程，可以選用脈衝電源或周期換向電源，以獲得更為細致的金屬結晶和表麵質量。
對於要求純正直流的電鑄過程，可以選用開關電源等更為高級的供電方式，在需要自動控製的場合，則可以加入電腦自動控製係統，使電鑄過程獲得穩定的電流供應而不出現較大的波動。
電鑄過程中對電流的監控實際上是對電流密度的監控，因此選擇電源功率的依據是根據所需要加工的電鑄製品的表麵積。通常以所能加工的最大表麵積和最大的電流密度的積為選取電源功率的依據，並且還要加上10％～l5％的裕度。
(2)電鑄槽
電鑄用的槽體因所加工的製品不同而有所不同。和電鍍槽一樣屬於非標準設備。槽體所用的材料要能防止電鑄液的腐蝕和溫度等變化的影響。
由於電鑄所用的鍍液有不少是高溫型，因此，電鑄用鍍槽宜於用鋼材襯軟PVC，也可以采用增強的硬PVC製作鍍槽。
電鑄槽的大小視所加工的電鑄製件的大小而定。如果是體積較小的電鑄製品，還要考慮單個電鑄槽的承載量或者說根據所需要加工電鑄製品的產量，來確定所需要的設備。
需要注意的是這種根據實際生產需要計算出的鍍槽的容量並不包括日後發展時對電鑄設備的需要，因此，一般都要對鍍槽的容量適當放大，以留有產能的裕量。因此，電鑄槽的容量可以從幾十升至幾千升不等。同時，盡管傳統的電鑄槽的形狀與電鍍槽大同小異，現在電鑄槽的形狀有很多，已經與電鍍用鍍槽的形狀有所不同。
因為對於不同的電鑄加工，要根據所加工的製品的形狀、大小和具體的要求專門設計鍍槽和輔助裝置。比如連續鍍所用的帶滾輪的鍍槽，光盤電鑄所需要的旋盤電極等。有些槽體也會因為鑄製品的形狀特殊而要采用特製的鍍槽。
對於電鑄液量不大而又可以另外設置循環過濾槽的電鑄槽，可以采用陶瓷槽體。對於不需要加溫的常溫型電鑄或加溫不超過60℃的鍍液，可以采用普通PVC鍍槽或玻璃鋼鍍槽。
有些產品生產型電鑄，例如鎳質剃須刀網罩、波導管等大批量生產的製品，可以采用電鑄自動線生產。由自動或半自動控製係統按設定的流程程序進行操作，可以提高生產效率和適應大規模的生產。
對於近年出現的微電鑄加工，則可以在更為小型的鍍槽內進行，並且這種電鑄槽對所有工藝參數都盡可能采用自動控製係統加以控製，以保證過程的高度重現性。
(3)電鑄用陽極
電鑄的陽極通常都要求是可溶性陽極，並且對純度也有一定的要求。根據電鑄製品的精度和硬度等不同的要求，對陽極的要求也不一樣。普通電鑄可以采用99．9％的陽極，但是對於鍍層純度有較高要求的電鑄，則要采用99．99％的陽極，以保證鍍層的柔軟性和鍍液的純淨。
對於電鑄而言，由於陰極的工作電流密度高，工作時間長，因此，要求陽極與陰極的麵積比要比電鍍的大一些。陽極的麵積至少要是陰極麵積的2倍以上。
同時，一定要配置陽極籃，這樣可以保證在可溶性陽極不足時，陽極仍然可以起導電作用，緩衝由於陽極消耗過大時，可溶性陽極麵積減小引起的電流密度和槽電壓的變化過大。
無論是采用陽極籃或陽極都要加上陽極套，以防止陽極泥落入鍍液內而使沉積層表麵出現刺瘤等質量問題。
對於陽極有較高要求的電鑄，可以在鍍槽中設置專門的陽極室，以隔膜與陰極區隔開，以免陽極泥等影響電鑄過程。
